24小时热门版块排行榜    

查看: 3571  |  回复: 8
当前只显示满足指定条件的回帖,点击这里查看本话题的所有回帖

Illusionist

银虫 (正式写手)

[求助] 缺陷D在q电子态下的形成能的计算

PRL Origins of Coexistence of Conductivity and Transparency in SnO2
文章说道
缺陷D在q电子态下的形成能的计算
u0和uSn是氧和锡的化学势,该怎么计算。
计算E(O2)不要用O原子的能量修正一下么,但是修正后岂不是得到结合能了。
        O        -1.828417eV
        O2        -9.861268eV
这么算结合能的话是6.204434,比实验值(5.2左右)大很多啊·····

求高手。

公式如图


[ Last edited by Illusionist on 2011-11-3 at 17:47 ]
回复此楼

» 收录本帖的淘帖专辑推荐

带电掺杂体系形成能 vasp计算资料 零点能 第一性原理和电化学
first principle 杂七杂八 good resources 缺陷计算

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐,对您同样有帮助:

已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

Illusionist

银虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by tider at 2011-11-04 18:33:09:
我最近也正想研究ZnO的本征缺陷,所以看了看相关文献,不过我不是高手,我们一起讨论一下吧。
1.化学势就是吉布斯自由能,它表征元素能否稳定存在。因此体系中缺陷(如O)的化学势就要和体系所处环境中该O的化学 ...

1.    2uO+uSn=SnO2的形成焓,怎么回事啊?
2.    意思就是说,一般情况下我们只处理极端情况,即富氧uO=0.5*E(O2)或富其他元素的。
3.   E(O2)不修正的话,那E(O2)的参考基准是什么,VASP和MS的计算结果可能就不一样了。
5楼2011-11-05 08:26:12
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 9 个回答

tider

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★
fzx2008(金币+2): 谢谢交流! 2011-11-04 19:01:20
Illusionist(金币+5): 谢谢 2011-11-05 08:16:52
我最近也正想研究ZnO的本征缺陷,所以看了看相关文献,不过我不是高手,我们一起讨论一下吧。
1.化学势就是吉布斯自由能,它表征元素能否稳定存在。因此体系中缺陷(如O)的化学势就要和体系所处环境中该O的化学势相同,但是环境中O的浓度是不定的,对应不定的化学势,这就意味着体系中的化学势也是一个变量。
2.这个变量必然会有一个范围。它的上限就是环境中全部都是O,即富氧条件,而下限则是全部都是Zn(以ZnO为例),即富Zn条件。同时满足u(Zn)+u(O)>u(ZnO),这样体系才能稳定存在。
3.E(O2)为什么要修正呢?用它减去单原子能量就是结合能了。我也算过,得到的是5.71eV,也有差别,可能跟选取的赝势不同吧。不过据说DFT计算结合能精度不是太高。这与它的slowly varying density假设有关??
4.有一个地方我也不太明白,还想请教,为什么Ef也是变量?变化范围是VBM到CBM。是因为这之间是空带,都没有电子可填充?
2楼2011-11-04 18:33:09
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

stractor

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖


Illusionist(金币+5): 2011-11-05 08:17:28
uuv2010(金币+1): 多谢提示! 2011-11-05 11:36:52
引用回帖:
2楼: Originally posted by tider at 2011-11-04 18:33:09:
我最近也正想研究ZnO的本征缺陷,所以看了看相关文献,不过我不是高手,我们一起讨论一下吧。
1.化学势就是吉布斯自由能,它表征元素能否稳定存在。因此体系中缺陷(如O)的化学势就要和体系所处环境中该O的化学 ...

“有一个地方我也不太明白,还想请教,为什么Ef也是变量?变化范围是VBM到CBM。是因为这之间是空带,都没有电子可填充?”
可以这样理解:
对于某带电缺陷,它要得到或去电子,或者说需要将电子在两个“环境”中进行交换。其中一个环境就是晶格本身,另一个环境就是带隙之中的某一位置。例如ZnO中正一价O空位,就是移走中性O原子和一个多余电子。这个多余电子会跑到哪里去呢?两个极端就是要么跑到导带底和价带顶。它可以处于这个两个极端情形的任何位置。所以缺陷形成能公式中费米能级是变量。
此外,对于缺陷情形,会产生缺陷态,大多缺陷态是在带隙之中的,这些缺陷态可能被电子占据。这你可以看半导体物理教科书。所以对于缺陷半导体,带隙之间电子是有机会填充的。
3楼2011-11-05 04:24:42
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

bingmou

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖


Illusionist(金币+5): 2011-11-05 08:17:43
uuv2010(金币+1): 多谢提示! 2011-11-05 11:37:05
.E(O2)为什么要修正呢?用它减去单原子能量就是结合能了。我也算过,得到的是5.71eV,也有差别,可能跟选取的赝势不同吧。不过据说DFT计算结合能精度不是太高。这与它的slowly varying density假设有关??

DFT 计算得到的结合能误差很大,所以要尽可能修正,如果你需要准确的结合能的话
4楼2011-11-05 06:30:17
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
信息提示
请填处理意见