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kakarote金虫 (文坛精英)
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ICP反应离子刻蚀气体流量控制不稳定
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我自己搭建的反应离子刻蚀设备，进气是通过质量流量计控制，最近出现这样的问题，开始通气后，打开射频电源输入功率以后，气体流量计出现不稳定现在，数字跳的厉害，也可以听见进气端气体流入不稳定的声音。是因为射频产生的电磁辐射对流量计干扰了呢，还是其他什么原因。大家用的刻蚀设备是用什么流量计的？ [ 来自科研家族 晶体材料家族 ] |
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zh821217339
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