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kakarote

金虫 (文坛精英)

[求助] ICP反应离子刻蚀气体流量控制不稳定

我自己搭建的反应离子刻蚀设备,进气是通过质量流量计控制,最近出现这样的问题,开始通气后,打开射频电源输入功率以后,气体流量计出现不稳定现在,数字跳的厉害,也可以听见进气端气体流入不稳定的声音。是因为射频产生的电磁辐射对流量计干扰了呢,还是其他什么原因。大家用的刻蚀设备是用什么流量计的?

[ 来自科研家族 晶体材料家族 ]
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2楼2011-10-08 12:09:18
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zh821217339

金虫 (小有名气)

你们那可以刻蚀柱子阵列?
知识的力量是无穷大的
3楼2016-07-20 12:54:49
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kakarote

金虫 (文坛精英)

这是我们下一步准备进行的工作。

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4楼2016-07-20 13:55:01
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kakarote

金虫 (文坛精英)

引用回帖:
3楼: Originally posted by zh821217339 at 2016-07-20 12:54:49
你们那可以刻蚀柱子阵列?

这是我们下一步准备进行的工作,纳米线桂阵列吗。

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5楼2016-07-20 13:56:16
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15190052720

新虫 (正式写手)

流量计最好校正和归零一次。

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6楼2016-09-09 23:10:20
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15190052720

新虫 (正式写手)

如果您担心是干扰的问题,加几个磁扣看看。

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7楼2016-09-09 23:11:25
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kakarote

金虫 (文坛精英)

引用回帖:
7楼: Originally posted by 15190052720 at 2016-09-09 23:11:25
如果您担心是干扰的问题,加几个磁扣看看。

已经解决了,谢谢。
8楼2016-09-09 23:50:48
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wtm_AE

金虫 (小有名气)

流量计:Aera的FC-R7700CD系列的,射频电源:美国CERES   13.56HZ 600W,使用效果挺好的
QQ:1723046531
9楼2016-09-19 09:26:37
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