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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 光学材料 » 蒸发镀膜真空度问题讨论
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greenhaw

金虫 (初入文坛)

[交流] 蒸发镀膜真空度问题讨论 已有4人参与

蒸发镀膜过程中，真空度一般都在10-2Pa左右，真空度过低可能会影响蒸发出来分子能量，降低膜层品质，但是真空度升高到10-3Pa，10-4Pa左右时对蒸发镀膜有什么影响？
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1楼 2011-07-14 20:12:49
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andyzhao5858

木虫 (正式写手)
★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
zhaohaixing(金币+1): 谢谢参与~ 2011-07-16 07:56:07
看你做啥材料了，不同的膜对真空度要求是不同的
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3楼2011-07-15 19:26:02
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cord

铁杆木虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
做做实验就知道了，不要什么问题都来问。
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2楼2011-07-15 01:23:47
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greenhaw

金虫 (初入文坛)
引用回帖:
Originally posted by cord at 2011-07-15 01:23:47:
做做实验就知道了，不要什么问题都来问。

知道就说，不知道就闭嘴。
赞一下 回复此楼
4楼2011-07-16 10:10:18
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greenhaw

金虫 (初入文坛)
引用回帖:
Originally posted by andyzhao5858 at 2011-07-15 19:26:02:
看你做啥材料了，不同的膜对真空度要求是不同的

因为我们设备的APC损坏，无法稳定压力，蒸发基本都在10-3Pa左右进行，未发现明显异常，如果这样可以还要APC干什么？
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5楼2011-07-16 10:13:43
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