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蒸发镀膜真空度问题讨论
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greenhaw
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注册: 2009-04-01
专业: 半导体材料
[交流]
蒸发镀膜真空度问题讨论
已有4人参与
蒸发镀膜过程中,真空度一般都在10-2Pa左右,真空度过低可能会影响蒸发出来分子能量,降低膜层品质,但是真空度升高到10-3Pa,10-4Pa左右时对蒸发镀膜有什么影响?
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1楼
2011-07-14 20:12:49
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andyzhao5858
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小木虫(金币
+0.5
):给个红包,谢谢回帖
zhaohaixing(金币+1): 谢谢参与~ 2011-07-16 07:56:07
看你做啥材料了,不同的膜对真空度要求是不同的
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3楼
2011-07-15 19:26:02
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