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为什么做表面弛豫时，真空层位置不同会对结果有显著影响？
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如题，一直以为按照晶格的周期性，真空层只要厚度足够就可以了。因为晶胞在三维空间的周期性，真空层无论加在哪一侧效果都是一样的。 前几天看有人讨论central symmetry，里面提到需要将表面结构放在晶格中间，两侧有相同厚度真空层，感觉十分不解。于是用厚度为2的Si<1 1 1>面进行了实验。真空层分别加在界面两侧和单侧，castep中弛豫后结果如下图，显然有很大的不同，请问这是什么原因？  |
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hhp102
铁杆木虫 (小有名气)
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9楼2011-04-25 09:19:20
2楼2011-04-22 13:31:31
hyff0809
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我也纠结过同样的问题，现在也没弄明白，等待牛人的解答 3楼2011-04-22 19:39:16
【答案】应助回帖
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yaodu(金币+10): 非常感谢 2011-04-22 22:40:46
sunyang1988(金币+1): 谢谢交流 2011-04-23 12:19:44
yaodu(金币+4): 2011-04-26 08:06:18
yaodu(金币+10): 非常感谢 2011-04-22 22:40:46
sunyang1988(金币+1): 谢谢交流 2011-04-23 12:19:44
yaodu(金币+4): 2011-04-26 08:06:18
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如果你的体系一开始是对称的，那么有很多软件会分析对称性然后简化计算，在计算过程中保持这个对称性，因此弛豫结果可能会不同。 最简单的例子是一个开头向下的抛物线顶点放一个小球，如果你要保持对称性，那么弛豫的结果肯定是小球保持在顶点；如果不保持对称性，那么结果就是小球超某一个方向滚下去 [ Last edited by bingmou on 2011-4-22 at 22:22 ] |
4楼2011-04-22 22:19:14
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