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【讨论】如何区分对底物的响应是扩散峰还是催化峰？
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我最近做了一个体系，GCE电极作为基底，扫了循环伏安，发现氧化峰电流随底物浓度增加线性增加，只是该响应在底物低浓度的时候不是很明显，信号放大后可以看到增加，后来做了IT曲线，发现不同浓度梯度的响应都很好，都是3S内出现平台。就这一实验结果我们组的人持2种意见： 一种认为是催化峰，理由是如果不是催化峰，CV曲线的响应不会那么稳定地线性增加，之前我也作为一些体系，如果没催化或者不稳定，加入底物后可能响应会低于裸电极，还有就是IT曲线响应不错，扩散峰应该不会出现加入底物就立刻出现平台的吧  另一个观点则认为这不是催化峰，理由是催化效果不明显，他们认为如果是催化，加入底物，其法拉第电流响应应该相对于裸电极明显增加，而我加入低浓度底物，这种增加并不明显。 两者都有点道理，各位虫友怎么看？ PS：我个人认为不是扩散峰，因为在做CV底物浓度实验前，我把电极扫了40个循环，是确认信号稳定后再做的，而且如果先加高浓度底物，它的电流响应和低浓度底物的电流响应是成比例的 但这个称为催化似乎有点牵强，不知道有没有同学做过类似的催化，如果不能看出催化，可否称它为某某底物的传感器？ 求教啊  |
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