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【讨论】如何区分对底物的响应是扩散峰还是催化峰?
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我最近做了一个体系,GCE电极作为基底,扫了循环伏安,发现氧化峰电流随底物浓度增加线性增加,只是该响应在底物低浓度的时候不是很明显,信号放大后可以看到增加,后来做了IT曲线,发现不同浓度梯度的响应都很好,都是3S内出现平台。就这一实验结果我们组的人持2种意见: 一种认为是催化峰,理由是如果不是催化峰,CV曲线的响应不会那么稳定地线性增加,之前我也作为一些体系,如果没催化或者不稳定,加入底物后可能响应会低于裸电极,还有就是IT曲线响应不错,扩散峰应该不会出现加入底物就立刻出现平台的吧 ![]() 另一个观点则认为这不是催化峰,理由是催化效果不明显,他们认为如果是催化,加入底物,其法拉第电流响应应该相对于裸电极明显增加,而我加入低浓度底物,这种增加并不明显。 两者都有点道理,各位虫友怎么看? PS:我个人认为不是扩散峰,因为在做CV底物浓度实验前,我把电极扫了40个循环,是确认信号稳定后再做的,而且如果先加高浓度底物,它的电流响应和低浓度底物的电流响应是成比例的 但这个称为催化似乎有点牵强,不知道有没有同学做过类似的催化,如果不能看出催化,可否称它为某某底物的传感器? 求教啊 |
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