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zhangxin66

铁虫 (小有名气)


[交流] 【求助】请教高手:SiO2的包覆问题

我在做Fe2O3纳米粒子外包覆SiO2的合成实验,在合成后的体系中总有SiO2小球出现,想请教下,是什么原因,怎样能避免出现SiO2小球或是如何除去?
再有想增加包覆SiO2壳的厚度,参照文献做了很多次,目前只能达到30nm左右,想再厚些,该怎么做呢? 谢谢
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zhangxin66

铁虫 (小有名气)


引用回帖:
Originally posted by xiejf at 2011-04-01 17:05:59:
是有可能有少量的二氧化硅微球的,可以在做之前先对氧化铁进行一下表面处理。

请问知道怎么样处理吗?
8楼2011-04-01 18:32:55
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420806862

银虫 (小有名气)


zhangxin66(金币+1): 2011-04-01 11:03:18
你可以自己试着改变一下,Fe2O3和SiO2的用量。
我觉得这个实验也应该是通过静电吸附形成核壳结构的吧。这样的话,吸附时间也有很大的影响。
可以自己多试一试,不要把用量完全按照文献来,每个地方的实验条件不一样,同样的用量可能得不到相同的结果!
2楼2011-04-01 11:00:21
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zhangxin66

铁虫 (小有名气)


引用回帖:
Originally posted by 420806862 at 2011-04-01 11:00:21:
你可以自己试着改变一下,Fe2O3和SiO2的用量。
我觉得这个实验也应该是通过静电吸附形成核壳结构的吧。这样的话,吸附时间也有很大的影响。
可以自己多试一试,不要把用量完全按照文献来,每个地方的实验条件不 ...

谢谢,就是把实验条件已经改变很多次了,结果还是不好,真郁闷啊。
包覆之前我用PVP做过处理
3楼2011-04-01 11:04:55
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zhangxin66

铁虫 (小有名气)


我没明白的是TEOS水解成的二氧化硅为什么没有都包覆在三氧化二铁粒子的外面,而是自己又合成出二氧化硅小球?
4楼2011-04-01 11:10:33
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