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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【求助】请教高手：SiO2的包覆问题
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zhangxin66

铁虫 (小有名气)

[交流] 【求助】请教高手：SiO2的包覆问题

我在做Fe2O3纳米粒子外包覆SiO2的合成实验，在合成后的体系中总有SiO2小球出现，想请教下，是什么原因，怎样能避免出现SiO2小球或是如何除去？
再有想增加包覆SiO2壳的厚度，参照文献做了很多次，目前只能达到30nm左右，想再厚些，该怎么做呢？ 谢谢
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1楼 2011-04-01 10:47:59
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zhangxin66

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by xiejf at 2011-04-01 17:05:59:
是有可能有少量的二氧化硅微球的，可以在做之前先对氧化铁进行一下表面处理。

请问知道怎么样处理吗？
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8楼2011-04-01 18:32:55
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420806862

银虫 (小有名气)
zhangxin66(金币+1): 2011-04-01 11:03:18
你可以自己试着改变一下，Fe2O3和SiO2的用量。
我觉得这个实验也应该是通过静电吸附形成核壳结构的吧。这样的话，吸附时间也有很大的影响。
可以自己多试一试，不要把用量完全按照文献来，每个地方的实验条件不一样，同样的用量可能得不到相同的结果！
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2楼2011-04-01 11:00:21
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zhangxin66

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by 420806862 at 2011-04-01 11:00:21:
你可以自己试着改变一下，Fe2O3和SiO2的用量。
我觉得这个实验也应该是通过静电吸附形成核壳结构的吧。这样的话，吸附时间也有很大的影响。
可以自己多试一试，不要把用量完全按照文献来，每个地方的实验条件不 ...

谢谢，就是把实验条件已经改变很多次了，结果还是不好，真郁闷啊。
包覆之前我用PVP做过处理
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3楼2011-04-01 11:04:55
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zhangxin66

铁虫 (小有名气)
我没明白的是TEOS水解成的二氧化硅为什么没有都包覆在三氧化二铁粒子的外面，而是自己又合成出二氧化硅小球？
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4楼2011-04-01 11:10:33
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