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【求助】请教高手:SiO2的包覆问题
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zhangxin66
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【求助】请教高手:SiO2的包覆问题
我在做Fe2O3纳米粒子外包覆SiO2的合成实验,在合成后的体系中总有SiO2小球出现,想请教下,是什么原因,怎样能避免出现SiO2小球或是如何除去?
再有想增加包覆SiO2壳的厚度,参照文献做了很多次,目前只能达到30nm左右,想再厚些,该怎么做呢? 谢谢
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1楼
2011-04-01 10:47:59
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zhangxin66(金币+1): 2011-04-01 11:03:18
你可以自己试着改变一下,Fe2O3和SiO2的用量。
我觉得这个实验也应该是通过静电吸附形成核壳结构的吧。这样的话,吸附时间也有很大的影响。
可以自己多试一试,不要把用量完全按照文献来,每个地方的实验条件不一样,同样的用量可能得不到相同的结果!
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2楼
2011-04-01 11:00:21
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zhangxin66
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Originally posted by
420806862
at 2011-04-01 11:00:21:
你可以自己试着改变一下,Fe2O3和SiO2的用量。
我觉得这个实验也应该是通过静电吸附形成核壳结构的吧。这样的话,吸附时间也有很大的影响。
可以自己多试一试,不要把用量完全按照文献来,每个地方的实验条件不 ...
谢谢,就是把实验条件已经改变很多次了,结果还是不好,真郁闷啊。
包覆之前我用PVP做过处理
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3楼
2011-04-01 11:04:55
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zhangxin66
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我没明白的是TEOS水解成的二氧化硅为什么没有都包覆在三氧化二铁粒子的外面,而是自己又合成出二氧化硅小球?
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4楼
2011-04-01 11:10:33
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zhangxin66(金币+1): 2011-04-01 15:03:01
你用微乳液法做下
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2011-04-01 12:30:24
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zhangxin66(金币+1): 2011-04-25 14:41:40
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Originally posted by
zhangxin66
at 2011-04-01 11:10:33:
我没明白的是TEOS水解成的二氧化硅为什么没有都包覆在三氧化二铁粒子的外面,而是自己又合成出二氧化硅小球?
很有可能啊,包覆不均匀很正常吧
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6楼
2011-04-01 13:23:24
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zhangxin66(金币+1): 2011-04-01 18:32:27
是有可能有少量的二氧化硅微球的,可以在做之前先对氧化铁进行一下表面处理。
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7楼
2011-04-01 17:05:59
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zhangxin66
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xiejf
at 2011-04-01 17:05:59:
是有可能有少量的二氧化硅微球的,可以在做之前先对氧化铁进行一下表面处理。
请问知道怎么样处理吗?
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8楼
2011-04-01 18:32:55
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zhangxin66(金币+1): 2011-04-02 09:47:23
貌似有用氨基硅烷处理的,还有的是简单的用酸或者碱处理,看被包覆物质的电性。
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9楼
2011-04-01 22:16:48
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zhangxin66(金币+1): 2011-04-06 09:52:40
+有可能是TEOS的水解条件没控制好或者是TEOS的量多了
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10楼
2011-04-02 12:24:38
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11楼
2011-04-02 15:16:39
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★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
你好,我做这个实验的时候氧化硅总是连在一起,没有单分散现象是什么原因。
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12楼
2014-12-22 00:46:00
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