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【求助】反应离子刻蚀的问题
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wangshuozxcv
铁杆木虫
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[交流]
【求助】反应离子刻蚀的问题
小弟想在利用二氧化硅做掩模板,利用反应离子刻蚀在硅表面刻蚀硅纳米线
但是 刻出来的效果很差 感觉好像没有刻动一下 大家帮我分析一下原因。
谢谢了
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2010-12-15 14:15:38
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wangshuozxcv
铁杆木虫
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怎么没人帮我解答呀
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2楼
2010-12-16 09:51:24
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wangshuozxcv
铁杆木虫
(正式写手)
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自己的帖子 再支持一下
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3楼
2010-12-24 09:50:20
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kpliu1
新虫
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虫号: 527944
因为选择比不够高,建议改刻蚀气体。
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4楼
2011-03-30 00:24:14
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rock19850817
铜虫
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帖子: 81
在线: 152.3小时
虫号: 925821
换掩膜材料 最好是金属 比如 Cr
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5楼
2011-04-05 21:43:22
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quanbaogang
木虫
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虫号: 273719
wangshuozxcv(金币+10): 多谢 麻烦可以PM一个联系方式吗?QQ之类的 我有一些纳米线阵列问题要问 2011-04-11 09:19:32
一般来讲利用反应离子刻蚀技术二氧化硅对硅的选择比也就是20以内,如果想得到纳米线有点难。
高的选择比需要优化工艺,不要用三氯甲烷,应该用六氟化硫和氧气的混合气体。鉴于反应离子刻蚀是纳米级刻蚀技术,高长径比的纳米线应该使用ICP的冷冻刻蚀技术。建议楼主多看看与ICP相关文献。
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6楼
2011-04-09 00:29:27
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yupeng2012
金虫
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虫号: 1733496
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
您好,我想问一下您用反应离子的方法刻蚀出来Si纳米线了吗?
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7楼
2014-05-25 16:04:40
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