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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 前沿热点 » 【讨论】PECVD沉积SiO2时腔体内沉积上白色物质
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r9arrow

金虫 (小有名气)

[交流] 【讨论】PECVD沉积SiO2时腔体内沉积上白色物质 已有2人参与

如题，用SiH4, N2O, N2沉积SiO2薄膜，打开腔体后发现，基片边缘、匀气盘周边和腔体内壁上沉积上了白色的物质。怀疑这是镀膜过程中形成的SiO2颗粒，但操作、工艺和之前试验是一致的，之前就没出现这个问题。

各位可有好的方法避免这些白色物质出现？
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突然来了一个机会，空空的没有目的；就像姑娘当初生了我们，我们没有说愿意
1楼 2010-11-29 22:36:22
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r9arrow

金虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by gq_jiang at 2010-12-15 21:24:55:
采用SF6可进行清楚

谢谢，这个清洗时已经上了，只能清洗腔体了。我需要避免沉积啊，沉积到腔体可以不管，但要命的是会同时沉积到薄膜里面啊
赞一下 回复此楼
突然来了一个机会，空空的没有目的；就像姑娘当初生了我们，我们没有说愿意
3楼2010-12-16 14:06:14
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gq_jiang

铁虫 (初入文坛)
★
csuhcb2000(金币+1):欢迎交流 2010-12-16 17:07:15
采用SF6可进行清楚
赞一下(1人) 回复此楼
2楼2010-12-15 21:24:55
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