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【讨论】PECVD沉积SiO2时腔体内沉积上白色物质 已有2人参与
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如题，用SiH4, N2O, N2沉积SiO2薄膜，打开腔体后发现，基片边缘、匀气盘周边和腔体内壁上沉积上了白色的物质。怀疑这是镀膜过程中形成的SiO2颗粒，但操作、工艺和之前试验是一致的，之前就没出现这个问题。 各位可有好的方法避免这些白色物质出现？ |
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