| 查看: 984 | 回复: 2 | |||
[交流]
【讨论】PECVD沉积SiO2时腔体内沉积上白色物质 已有2人参与
|
|
如题，用SiH4, N2O, N2沉积SiO2薄膜，打开腔体后发现，基片边缘、匀气盘周边和腔体内壁上沉积上了白色的物质。怀疑这是镀膜过程中形成的SiO2颗粒，但操作、工艺和之前试验是一致的，之前就没出现这个问题。 各位可有好的方法避免这些白色物质出现？ |
回复此楼» 猜你喜欢
求调剂院校信息
已经有4人回复
-
085600材料与化工306
已经有4人回复
-
286求调剂
已经有10人回复
-
328求调剂，英语六级551，有科研经历
已经有9人回复
-
一志愿北京化工大学070300 学硕336求调剂
已经有4人回复
-
286分人工智能专业请求调剂愿意跨考！
已经有8人回复
-
资源与环境 调剂申请(333分)
已经有5人回复
-
280求调剂
已经有12人回复
-
269专硕求调剂
已经有5人回复
-
材料学硕301分求调剂
已经有7人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- Fe3O4@CdTe@SiO2 的复合颗粒
已经有8人回复
- 求助关于用PECVD在硅片上生长SiO2的掩膜材料
已经有8人回复
- LB技术沉积SiO2
已经有5人回复
- 石墨烯能否在Sio2或Si基体上用化学气相沉积法长成？
已经有7人回复
- 谁做过电沉积的循环伏安曲线
已经有11人回复
- 【求助】急急求助：鼠体内药物分析，关于样品的前处理
已经有6人回复
- 【请教】CVD化学气相沉积制备纳米线时的催化剂
已经有9人回复
- 【求助】PECVD沉积SiO2薄膜，结果把机械泵的排风管给腐蚀了！
已经有5人回复
- 【求助】关于沉积物氮释放的问题
已经有8人回复
- 【请教】怎么测试等离子化学气相沉积（PECVD）的氮化硅薄膜内应力？
已经有5人回复
2楼2010-12-15 21:24:55
3楼2010-12-16 14:06:14
