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r9arrow

金虫 (小有名气)

[交流] 【讨论】PECVD沉积SiO2时腔体内沉积上白色物质 已有2人参与

如题,用SiH4, N2O, N2沉积SiO2薄膜,打开腔体后发现,基片边缘、匀气盘周边和腔体内壁上沉积上了白色的物质。怀疑这是镀膜过程中形成的SiO2颗粒,但操作、工艺和之前试验是一致的,之前就没出现这个问题。

各位可有好的方法避免这些白色物质出现?
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突然来了一个机会,空空的没有目的;就像姑娘当初生了我们,我们没有说愿意
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gq_jiang

铁虫 (初入文坛)


csuhcb2000(金币+1):欢迎交流 2010-12-16 17:07:15
采用SF6可进行清楚
2楼2010-12-15 21:24:55
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r9arrow

金虫 (小有名气)

引用回帖:
Originally posted by gq_jiang at 2010-12-15 21:24:55:
采用SF6可进行清楚

谢谢,这个清洗时已经上了,只能清洗腔体了。我需要避免沉积啊,沉积到腔体可以不管,但要命的是会同时沉积到薄膜里面啊
突然来了一个机会,空空的没有目的;就像姑娘当初生了我们,我们没有说愿意
3楼2010-12-16 14:06:14
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