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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 【讨论】Hummers法制备氧化过程讨论
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yhj123456

木虫 (小有名气)

[交流] 【讨论】Hummers法制备氧化过程讨论

请问，Hummers法低、中、高温反应过程各发生什么反应，我在文献上看到低温主要发生硫酸分子的插层，中温主要是石墨的氧化，高温则是水解。但是我做了各个阶段反应产物XRD，发现低温结束产物XRD在25.4°，26.4°那分别有两个小峰，难道可以解释是硫酸分子插层造成层间距0.01nm那么点点的扩大？还有就是中温结束后得到的产物XRD，分别在8.6°和25.6出现峰，是不是能解释成石墨氧化造成层间距快速增大？我很迷惑，望大侠和同道中人相助，万分感谢！
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1楼 2010-11-21 22:19:37
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yhj123456

木虫 (小有名气)
wandaohzl:鼓励交流 2010-11-23 11:48:59
引用回帖:
Originally posted by lchpy at 2010-11-22 14:30:44:
硫酸分子进入之后 层间距应该是有变化,但是应该不是很明显吧. 26.4应该是石墨本身的XRD峰吧. 氧化过程中,层和层之间的距离被拉开, 含氧官能团形成, 最后的高温应该是进一步剥落的过程吧. 10°左右一般应该是氧化石 ...

如果硫酸插层导致层间距增大不多，氧化过程却迅速增大，但是 最后的高温应该是进一步剥落的过程，我的结果出来却是层间距减少了。
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6楼2010-11-23 11:32:48
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lgx_nuaa

金虫 (小有名气)
yhj123456(金币+1): 2010-11-22 14:40:45
wandaohzl:鼓励交流 2010-11-23 11:48:39
yhj123456(金币+1): 2010-12-24 16:51:59
yhj123456(金币+1): 2011-04-03 17:22:25
yhj123456(金币+1): 2011-05-08 11:22:31
各阶段的产物是怎么获得的
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2楼2010-11-22 09:55:10
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lchpy

木虫 (职业作家)
yhj123456(金币+1): 2010-11-22 14:38:31
wandaohzl:鼓励交流 2010-11-23 11:48:46
yhj123456(金币+1): 2010-12-16 21:36:03
yhj123456(金币+4): 2010-12-16 21:37:51
硫酸分子进入之后 层间距应该是有变化,但是应该不是很明显吧. 26.4应该是石墨本身的XRD峰吧. 氧化过程中,层和层之间的距离被拉开, 含氧官能团形成, 最后的高温应该是进一步剥落的过程吧. 10°左右一般应该是氧化石墨的XRD峰.石墨被氧化之后由于含氧官能团的生成,导致了原有的层于层之间的作用力被挣脱.?. 剥落下来就可以理解成间距迅速增大吧.
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4楼2010-11-22 14:30:44
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yhj123456

木虫 (小有名气)
wandaohzl:鼓励交流 2010-11-23 11:48:53
引用回帖:
Originally posted by lgx_nuaa at 2010-11-22 09:55:10:
各阶段的产物是怎么获得的

各个阶段的产物是各个阶段结束以后用冰水冷却洗涤以后得到的
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5楼2010-11-22 14:45:49
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