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【讨论】Hummers法制备氧化过程讨论
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| 请问，Hummers法低、中、高温反应过程各发生什么反应，我在文献上看到低温主要发生硫酸分子的插层，中温主要是石墨的氧化，高温则是水解。但是我做了各个阶段反应产物XRD，发现低温结束产物XRD在25.4°，26.4°那分别有两个小峰，难道可以解释是硫酸分子插层造成层间距0.01nm那么点点的扩大？还有就是中温结束后得到的产物XRD，分别在8.6°和25.6出现峰，是不是能解释成石墨氧化造成层间距快速增大？我很迷惑，望大侠和同道中人相助，万分感谢！ |
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yhj123456(金币+1): 2010-11-22 14:38:31
wandaohzl:鼓励交流 2010-11-23 11:48:46
yhj123456(金币+1): 2010-12-16 21:36:03
yhj123456(金币+4): 2010-12-16 21:37:51
wandaohzl:鼓励交流 2010-11-23 11:48:46
yhj123456(金币+1): 2010-12-16 21:36:03
yhj123456(金币+4): 2010-12-16 21:37:51
| 硫酸分子进入之后 层间距应该是有变化,但是应该不是很明显吧. 26.4应该是石墨本身的XRD峰吧. 氧化过程中,层和层之间的距离被拉开, 含氧官能团形成, 最后的高温应该是进一步剥落的过程吧. 10°左右一般应该是氧化石墨的XRD峰.石墨被氧化之后由于含氧官能团的生成,导致了原有的层于层之间的作用力被挣脱.?. 剥落下来就可以理解成间距迅速增大吧. |
4楼2010-11-22 14:30:44
2楼2010-11-22 09:55:10
5楼2010-11-22 14:45:49
6楼2010-11-23 11:32:48
