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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【请教】正性光刻胶溶于碱性溶液？？？
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gamewang

木虫 (著名写手)

[交流] 【请教】正性光刻胶溶于碱性溶液？？？ 已有10人参与

我用正胶进行光刻，没有曝光的光刻胶溶于碱性溶液吗？？？如果溶，那么后续工艺如何处理？？？
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微信公众号：zajiadabing
1楼 2010-07-17 15:28:43
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maccaboy

至尊木虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
需要仔细了解光刻工艺   这个是很成熟

曝光后通常显影的时间很短，显影液通常是碱性
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4楼2010-07-20 09:10:17
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zccken

木虫 (正式写手)
★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
yunruirui(金币+1):谢谢交流回帖，欢迎常来 2010-07-17 17:55:54
曝光的地方会发生交联，就不溶于碱性溶液了
不曝光的地方可以溶于碱性溶液
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2楼2010-07-17 17:00:03
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gamewang

木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by zccken at 2010-07-17 17:00:03:
曝光的地方会发生交联，就不溶于碱性溶液了
不曝光的地方可以溶于碱性溶液

正胶是这样么？
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微信公众号：zajiadabing
3楼2010-07-18 07:49:40
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ffffjjjj

金虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
如果是正性光刻胶，那就应该是曝光的地方溶于碱液，未曝光的地方不溶解。
楼主最好是查阅光刻胶的用户手册，因为通常来说，溶解与不溶解都是相对的，我知道有一种正性光刻胶，0.5%NaOH水溶液是显影液，短时间浸泡是显影。而5%NaOH水溶液是去胶剂，略微长时间浸泡可以将未曝光区域的胶去除。所以，你这样泛泛的问，可能对你的光刻和显影没有实质性帮助。
我也是新手，说得不对的地方，还望指教。
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5楼2010-07-20 09:35:28
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