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futurelife

银虫 (小有名气)

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[交流] 【求助】求助：磁控溅射问题已有17人参与

今天在我用磁控溅射直流溅射Ni靶的时候发现靶材能起辉，但电流电压加到一定值时就加不上去了，而且同一电流下，电压要比以前大很多，请问问题主要出在哪了？非常感谢

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1楼 2010-05-18 13:29:18

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银虫 (小有名气)

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化学小工(金币+5):这份总结很好！希望以后多来交流 2010-05-26 22:22:24
zhangquan8385: 回帖置顶 2012-01-13 16:47:51

呵呵，谢谢大家回复！刚开始的时候，我也初步认定是Ni靶被氧化的事，因为每次试完就发现Ni靶除了被Ar离子溅射的那部分环外，其余地方都成焦黄色，测了一下成分，焦黄部分含氧，电阻也相对较大，可能就是这层氧化物导致荷电效应，于是我们改用射频靶，能起辉，但由于我们射频靶显示功率和反射功率的表盘出现问题，所以就没法验证了，但这氧气从哪来呢？后来一位老师指点，说很可能是Ni靶太厚把磁场屏蔽了，能起辉很可能只是强电场所致，因此那焦黄部分也就可以做个解释，但我们想着不可能啊，以前就是这个厚度，而且还用的好好的，现在为什么就不可以了，无论如何，死马当活马医吧，我们就把Ni靶又分成两块，每块1mm厚，结果这么一试，的确工作正常了。因此暂时可归结为Ni靶太厚，把磁场屏蔽了，但还是有点想不通，为什么以前2mm厚就工作正常，同是Ni靶，换了一个就工作不正常了？也说不定是仪器发飙了~~~~~~~~总之，感谢大家！