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【求助】硅的腐蚀 已有10人参与
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大家好! 一般硅的各向同性腐蚀液是HNO3 ∶HF = 3 ∶1 ,用于去除损伤层,大多数文献都只是这么简单指出。 但都没明确指出,HNO3 ∶HF 的比例是体积比,还是浓度比,或者是质量比或摩尔比。而且,不同级别的酸的浓度又不同。 请高手,给予澄清啊! 并指明来源出处! 共享! |
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9楼2010-04-06 08:48:02
ljjbpp
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- 专业: 半导体材料

3楼2010-03-31 12:58:05

4楼2010-03-31 16:43:39
ljjbpp
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5楼2010-03-31 17:09:51













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