| 查看: 1072 | 回复: 3 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
appleliu0506金虫 (小有名气)
|
[求助]
如何提高lift-off过程中电极的剥离速度和洁净度？ 已有1人参与
|
|
| 目前电极尺度在6微米，空白沟道1.5微米，这个尺度使用AZ胶光刻后，lift-off经常出现电极沉积不上去的问题。请教如何解决 |
回复此楼» 猜你喜欢
0857 资源与环境 285分
已经有3人回复
-
标题:捡漏预警|08工科/09农学调剂!英语要求低，过线即有机会!
已经有12人回复
-
一志愿安徽大学材料工程专硕313分，求调剂的学校
已经有8人回复
-
313求调剂
已经有4人回复
-
083000环境科学与工程调剂
已经有8人回复
-
材料调剂，307分
已经有12人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.5.5.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有4人回复
-
070300化学 280 一志愿太原理工 求调剂
已经有9人回复
-
一志愿北京化工大学材料与化工296分求调剂
已经有12人回复
-
哈工大材料324求调剂
已经有8人回复
4楼2024-03-27 11:26:51
【答案】应助回帖
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
appleliu0506: 金币+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
感谢参与，应助指数 +1
appleliu0506: 金币+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
|
lift-off的过程影响因素比较多：基底，光刻尺度，膜层厚度，浸泡溶液，plasma清洗等都会受到影响。 个人的经验是，尺度在1微米左右的光刻图案，建议使用Ti/Au的比例在1：3，e-beam沉积速率都控制在0.5A/s，之后使用丙酮浸泡30 min，期间不要晃动和处理基片。可以考虑在显影之后使用plasma处理30s（100w的情况下）。 尺度较大的光刻图案可使用NMP/DMSO等快速lift-off的浸泡溶液。 个人浅见，欢迎讨论~ |
2楼2024-03-27 11:09:53
appleliu0506
金虫 (小有名气)
- 应助: 4 (幼儿园)
- 金币: 580.4
- 散金: 204
- 红花: 6
- 帖子: 261
- 在线: 232小时
- 虫号: 985161
- 注册: 2010-03-29
- 专业: 电化学
3楼2024-03-27 11:16:33
10