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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 如何提高lift-off过程中电极的剥离速度和洁净度？
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appleliu0506

金虫 (小有名气)

[求助] 如何提高lift-off过程中电极的剥离速度和洁净度？ 已有1人参与

目前电极尺度在6微米，空白沟道1.5微米，这个尺度使用AZ胶光刻后，lift-off经常出现电极沉积不上去的问题。请教如何解决
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1楼 2024-03-26 09:51:46
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IIN_EG

捐助贵宾 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
appleliu0506: 金币+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
lift-off的过程影响因素比较多：基底，光刻尺度，膜层厚度，浸泡溶液，plasma清洗等都会受到影响。

个人的经验是，尺度在1微米左右的光刻图案，建议使用Ti/Au的比例在1：3，e-beam沉积速率都控制在0.5A/s，之后使用丙酮浸泡30 min，期间不要晃动和处理基片。可以考虑在显影之后使用plasma处理30s（100w的情况下）。

尺度较大的光刻图案可使用NMP/DMSO等快速lift-off的浸泡溶液。

个人浅见，欢迎讨论~
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2楼2024-03-27 11:09:53
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appleliu0506

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by IIN_EG at 2024-03-27 11:09:53
lift-off的过程影响因素比较多：基底，光刻尺度，膜层厚度，浸泡溶液，plasma清洗等都会受到影响。

个人的经验是，尺度在1微米左右的光刻图案，建议使用Ti/Au的比例在1：3，e-beam沉积速率都控制在0.5A/s，之后使 ...

是使用az的光刻胶吗？还是ebl光刻胶呢？

发自小木虫IOS客户端
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3楼2024-03-27 11:16:33
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IIN_EG

捐助贵宾 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by appleliu0506 at 2024-03-27 11:16:33
是使用az的光刻胶吗？还是ebl光刻胶呢？
...

AZ 1518
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4楼2024-03-27 11:26:51
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