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appleliu0506

金虫 (小有名气)

[求助] 如何提高lift-off过程中电极的剥离速度和洁净度? 已有1人参与

目前电极尺度在6微米,空白沟道1.5微米,这个尺度使用AZ胶光刻后,lift-off经常出现电极沉积不上去的问题。请教如何解决
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IIN_EG

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【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
appleliu0506: 金币+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
lift-off的过程影响因素比较多:基底,光刻尺度,膜层厚度,浸泡溶液,plasma清洗等都会受到影响。

个人的经验是,尺度在1微米左右的光刻图案,建议使用Ti/Au的比例在1:3,e-beam沉积速率都控制在0.5A/s,之后使用丙酮浸泡30 min,期间不要晃动和处理基片。可以考虑在显影之后使用plasma处理30s(100w的情况下)。

尺度较大的光刻图案可使用NMP/DMSO等快速lift-off的浸泡溶液。

个人浅见,欢迎讨论~
2楼2024-03-27 11:09:53
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appleliu0506

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by IIN_EG at 2024-03-27 11:09:53
lift-off的过程影响因素比较多:基底,光刻尺度,膜层厚度,浸泡溶液,plasma清洗等都会受到影响。

个人的经验是,尺度在1微米左右的光刻图案,建议使用Ti/Au的比例在1:3,e-beam沉积速率都控制在0.5A/s,之后使 ...

是使用az的光刻胶吗?还是ebl光刻胶呢?

发自小木虫IOS客户端
3楼2024-03-27 11:16:33
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IIN_EG

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引用回帖:
3楼: Originally posted by appleliu0506 at 2024-03-27 11:16:33
是使用az的光刻胶吗?还是ebl光刻胶呢?
...

AZ 1518
4楼2024-03-27 11:26:51
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