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appleliu0506金虫 (小有名气)
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[求助]
如何提高lift-off过程中电极的剥离速度和洁净度？ 已有1人参与
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| 目前电极尺度在6微米，空白沟道1.5微米，这个尺度使用AZ胶光刻后，lift-off经常出现电极沉积不上去的问题。请教如何解决 |
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appleliu0506
金虫 (小有名气)
- 应助: 4 (幼儿园)
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- 虫号: 985161
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- 专业: 电化学
3楼2024-03-27 11:16:33
【答案】应助回帖
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感谢参与，应助指数 +1
appleliu0506: 金币+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
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appleliu0506: 金币+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
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lift-off的过程影响因素比较多：基底，光刻尺度，膜层厚度，浸泡溶液，plasma清洗等都会受到影响。 个人的经验是，尺度在1微米左右的光刻图案，建议使用Ti/Au的比例在1：3，e-beam沉积速率都控制在0.5A/s，之后使用丙酮浸泡30 min，期间不要晃动和处理基片。可以考虑在显影之后使用plasma处理30s（100w的情况下）。 尺度较大的光刻图案可使用NMP/DMSO等快速lift-off的浸泡溶液。 个人浅见，欢迎讨论~ |
2楼2024-03-27 11:09:53
4楼2024-03-27 11:26:51