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半导体奇才

新虫 (初入文坛)

[求助] ALD生长薄膜出现渐变色求助！ 已有1人参与

用ALD生长的hf0.5zr0.5o2，280℃的温度，长出来的薄膜在TiN上颜色不均匀，呈现紫色到金光的渐变色，这是为什么呀。同一批在Si上面生长的却很均匀，但看脸有时也不均匀，这是因为前驱体过多或没吹扫够吗？跪谢！

@hwweven 发自小木虫IOS客户端
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1楼 2021-10-18 00:59:36
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yellow鑫

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
硅片上均匀的话要考虑氮化钛的问题，首先要确定氮化钛是否均匀
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两肩如铁，胸襟似海。
2楼2021-10-18 08:47:33
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辛苦的人

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
3楼2021-10-18 14:37:57
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半导体奇才

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yellow鑫 at 2021-10-18 08:47:33
硅片上均匀的话要考虑氮化钛的问题，首先要确定氮化钛是否均匀

TiN是我自己生长的，感觉厚度差距不会太大最多10nm，这个应该不会影响吧  我看他们不是经常有往孔洞里ald沉积的吗

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4楼2021-10-18 18:17:07
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半导体奇才

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 辛苦的人 at 2021-10-18 14:37:57
样品问题，工艺应该没啥问题

您是说衬底还是前驱体呀。

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5楼2021-10-18 18:17:40
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辛苦的人

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
6楼2021-10-18 19:30:56
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半导体奇才

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
6楼: Originally posted by 辛苦的人 at 2021-10-18 19:30:56
衬底

我调整后，在TiN上生长也很均匀了，但是和硅片比颜色差距很大。  但我用高温胶带做遮挡留底电极的片子却没法长上去，您知道有什么可以做遮挡的办法吗？

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7楼2021-10-20 09:09:48
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