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半导体奇才

新虫 (初入文坛)

[求助] ALD生长薄膜出现渐变色求助! 已有1人参与

用ALD生长的hf0.5zr0.5o2,280℃的温度,长出来的薄膜在TiN上颜色不均匀,呈现紫色到金光的渐变色,这是为什么呀。同一批在Si上面生长的却很均匀,但看脸有时也不均匀,这是因为前驱体过多或没吹扫够吗?跪谢!

@hwweven 发自小木虫IOS客户端
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半导体奇才

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 辛苦的人 at 2021-10-18 14:37:57
样品问题,工艺应该没啥问题

您是说衬底还是前驱体呀。

发自小木虫IOS客户端
5楼2021-10-18 18:17:40
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查看全部 7 个回答

yellow鑫

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
硅片上均匀的话要考虑氮化钛的问题,首先要确定氮化钛是否均匀
两肩如铁,胸襟似海。
2楼2021-10-18 08:47:33
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辛苦的人

禁虫 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

3楼2021-10-18 14:37:57
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半导体奇才

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yellow鑫 at 2021-10-18 08:47:33
硅片上均匀的话要考虑氮化钛的问题,首先要确定氮化钛是否均匀

TiN是我自己生长的,感觉厚度差距不会太大最多10nm,这个应该不会影响吧  我看他们不是经常有往孔洞里ald沉积的吗

发自小木虫IOS客户端
4楼2021-10-18 18:17:07
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