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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 综合资源 » 磁控溅射TiN沉积失败
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敖小归

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射TiN沉积失败 已有2人参与

用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？

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1楼 2021-03-04 23:15:52
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乌la

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
9楼: Originally posted by caojingpie at 2021-04-20 14:10:30
用TI靶和氮气。TIN维氏硬度都1800以上了你还沉积什么呀

请问维氏硬度高就不好溅射吗
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11楼2023-11-30 15:53:16
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MEMSlee

捐助贵宾 (著名写手)
溅射一般是反应的Ti和氮气反应

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2楼2021-03-05 00:13:29
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091820053

禁虫 (知名作家)
本帖内容被屏蔽
3楼2021-03-05 08:40:17
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敖小归

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by MEMSlee at 2021-03-05 00:13:29
溅射一般是反应的Ti和氮气反应

直接用TiN靶材不可以吗？

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4楼2021-03-05 09:30:17
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