| 查看: 2669 | 回复: 10 | ||
| 【悬赏金币】回答本帖问题，作者敖小归将赠送您 10 个金币 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
磁控溅射TiN沉积失败 已有2人参与
|
||
|
用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？ 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
DAC对顶压砧｜8个月实战记录（含交付数据）
已经有8人回复
-
急招2026 博士｜第2批 海南大学 ｜国家重大人才工程人才团队｜2名
已经有15人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有213人回复
-
急招2026 博士｜第2批 海南大学 ｜国家重大人才工程人才团队｜2名
已经有0人回复
-
凝胶注模氧化铝陶瓷，开裂问题
已经有1人回复
-
27 博士申请
已经有25人回复
-
Data征稿（EI检索收录），选题方向：环境风险管理的数据分析
已经有106人回复
-
求助，如何处理多孔碳材料才能拍出分散好的粉末SEM照片？
已经有4人回复
-
征稿：Data（EI工程索引、ESCI中科院四区）；主题：面向环境风险管理的数据分析；
已经有103人回复
11楼2023-11-30 15:53:16
2楼2021-03-05 00:13:29
|
本帖内容被屏蔽 |
3楼2021-03-05 08:40:17
4楼2021-03-05 09:30:17