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池州学子

木虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射的疑惑 已有5人参与

如题,采用磁控溅射,靶材如果是高纯石墨,得到的薄膜为无定型碳结构,和靶材结构差异性很大,但靶材如果是ITO靶,也就是氧化铟锡靶,得到的薄膜却与靶材结构近似,这是不是因为氩粒子的轰击过程,破坏了石墨的原子结构,那如果是这样的,溅射ITO的过程,为什么不会破坏ITO的结构。
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磁控溅射镀膜工艺

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匿名


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2楼2020-07-15 07:32:03
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野人禾禾

金虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
还是成键的能量问题
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
3楼2020-07-16 10:13:09
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sciencetechn

新虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
靶材被粒子轰击,是以原子的形式沉积在基板上,成膜的时候,不同的靶材成分,晶体排列方式是不一样的
专业研发高纯磁控溅射靶材蒸发镀膜材料:15210523788(微信),北京金源新材
4楼2020-12-24 10:41:52
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tt66tt55

捐助贵宾 (初入文坛)


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形成结构的能量(或者说条件)是不一样的,而且溅射ITO如果不通氧气的话也会出现氧缺失,并不是说靶材和镀的膜就完全一致。
5楼2020-12-24 16:42:41
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420758217

银虫 (小有名气)


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请问一下,你那里能镀厚度是100nm左右的ITO薄膜吗?
6楼2021-05-19 14:59:27
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