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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 磁控溅射的疑惑
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池州学子

木虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射的疑惑 已有5人参与

如题，采用磁控溅射，靶材如果是高纯石墨，得到的薄膜为无定型碳结构，和靶材结构差异性很大，但靶材如果是ITO靶，也就是氧化铟锡靶，得到的薄膜却与靶材结构近似，这是不是因为氩粒子的轰击过程，破坏了石墨的原子结构，那如果是这样的，溅射ITO的过程，为什么不会破坏ITO的结构。
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1楼 2020-07-14 15:41:20
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sciencetechn

新虫 (小有名气)
★
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靶材被粒子轰击，是以原子的形式沉积在基板上，成膜的时候，不同的靶材成分，晶体排列方式是不一样的
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专业研发高纯磁控溅射靶材蒸发镀膜材料：15210523788（微信），北京金源新材
4楼2020-12-24 10:41:52
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匿名

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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2楼2020-07-15 07:32:03
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野人禾禾

金虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
还是成键的能量问题
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
3楼2020-07-16 10:13:09
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tt66tt55

捐助贵宾 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
形成结构的能量（或者说条件）是不一样的，而且溅射ITO如果不通氧气的话也会出现氧缺失，并不是说靶材和镀的膜就完全一致。
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5楼2020-12-24 16:42:41
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