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请教一下Si片清洗相关问题
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请教一下Si片清洗相关问题
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本人是在硅片上长一层二氧化硅,用BOE清洗后发现随着清洗次数的增长,再长的SiO2折射率会越来越大,是不是因为硅片表面被BOE腐蚀变性导致的,有什么方法能解决这个问题呢,不想过一段时间就换硅片,又麻烦成本又高
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1楼
2020-01-06 11:11:29
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【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
反复氧化和腐蚀会导致粗糙度增加,不知道你长SiO的方法是什么,热氧还是PECVD,或者溅射?粗糙度对氧化硅的形成也不应该有什么影响的。或者是原生氧化层的影响??
折射率测量是用椭偏仪吗?按理说用椭偏不会受粗糙度影响。
建议直接换硅片,其实BOE腐蚀和后学清洗的费用,和硅片的钱比起来,还不一定哪个贵呢。建议找研材微纳。一般同批次的硅片不会有什么差异,多买点儿也没多少钱。
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2020-01-07 17:54:08
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2楼
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Originally posted by
yswyx
at 2020-01-07 17:54:08
反复氧化和腐蚀会导致粗糙度增加,不知道你长SiO的方法是什么,热氧还是PECVD,或者溅射?粗糙度对氧化硅的形成也不应该有什么影响的。或者是原生氧化层的影响??
折射率测量是用椭偏仪吗?按理说用椭偏不会受粗糙 ...
是用PECVD长的,SiH4+N2O;
测试是用F20测试的,就是清洗多次后用F20测出来的折射率会明显飘掉,越来越高;
买新硅片是可以买啦,目前就是想看看有什么方式可以不换Si片稳定测膜厚和折射率
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3楼
2020-01-08 16:12:56
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3楼
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Originally posted by
ForJN
at 2020-01-08 16:12:56
是用PECVD长的,SiH4+N2O;
测试是用F20测试的,就是清洗多次后用F20测出来的折射率会明显飘掉,越来越高;
买新硅片是可以买啦,目前就是想看看有什么方式可以不换Si片稳定测膜厚和折射率...
我不知道什么是F20,查了一下这个不是椭偏,是一种反射式的膜厚测量仪,有点儿类似白光干涉。
这种膜厚测量仪是不能作为折射率测量的标准的,所以建议你找个椭偏,把你之前做好的片子再测一遍。
因为白光干涉是会受到粗糙度的影响的,你还可以测一下你每次腐蚀后,片子的粗糙度,找个AFM测。
你的片子是研材微纳买的吗?像这种现象,很可能你一开始的片子粗糙度就有问题,应该直接先找研材技术部门询问。
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4楼
2020-01-08 16:41:22
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yswyx
at 2020-01-07 17:54:08
反复氧化和腐蚀会导致粗糙度增加,不知道你长SiO的方法是什么,热氧还是PECVD,或者溅射?粗糙度对氧化硅的形成也不应该有什么影响的。或者是原生氧化层的影响??
折射率测量是用椭偏仪吗?按理说用椭偏不会受粗糙 ...
PECVD 稳定性如何?SiO的厚度多大?这些都很重要。
发自小木虫IOS客户端
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5楼
2020-03-10 18:50:16
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F20测折射率是不准的,他的原理是干涉,只有厚度是测得准的,估计是粗糙度增加导致的,换椭偏试试吧
发自小木虫Android客户端
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6楼
2020-03-10 21:03:14
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