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Si 纳米线 目前感觉现在研究的人很少 是什么原因导致的？
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据我目前调研 Si纳米线 由于悬挂键导致的表面重组或者表面态 使其由半导体转变成导体 为了消除表面悬挂键 一开始 是通过加热Si纳米线 使其表面被空气氧化 形成SiO2的方法消除表面态，但是 由于钝化氧化层是非晶的 导致Si与SiO2的界面散射增大，导致电导下降。 后来，人们通过用HF消除Si纳米线表面的氧化层，然后通过氢气，用H来饱和Si表面的悬挂键，这样的氢钝化的Si纳米线，既保持了Si纳米线原有的半导体属性，而且还提高了它的迁移率（mobility），但是这种方法也有弊端，就是通过氢钝化的Si纳米线是不稳定的，在空气中只能放置不超过7个小时。 再后来，人们为了解决氢钝化Si纳米线的劣势，通过两种方法钝化Si纳米线 1. 通过卤素钝化的Si纳米线，通过I, Br, Cl元素来代替H元素，这样既可以在空气中稳定存在（稳定保持大概700小时），还保持了Si纳米线原有的半导体属性，虽然用卤素钝化的Si纳米线的bandgap 会比氢钝化的小一点，但这个完全不是问题。 2. 通过有机分子钝化Si纳米线，CH3或者一种有机链（具体忘了是什么了）来替代H，产生的效果好像与卤素的一样。 所以我想问一下 既然卤素钝化与有机分子钝化的Si纳米线实现的效果这么好的话，为什么目前感觉很少人在研究了呢？ 期望有大神帮我解答一下 谢谢。 |
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3楼2019-04-24 17:38:24
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2019-04-24 17:25
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hbabc4楼
2019-04-24 18:39
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