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375713000木虫 (正式写手)
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【求助】关于CASTAP中CO在Pd表面吸附例子的问题
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我看了最常见的castap的例子,CO在Pd表面吸附。 为什么在切割完加真空层后得进行以下操作: 选择Lattice Parameters选项。选择Advanced标签,按下Reorient to standard按钮,在3D model document中单击右键,选择在Display Style。然后选中Lattice标签,在Display中,把Style从Default改为Origina。再按下Up 指针键两次 这样做的目的是什么? 改变显示后,少了几原子, 没发现哪儿有什么UP指针啊 如果直接在加完真空层后进行优化,这样行不行? [ Last edited by freshgirl on 2009-6-21 at 20:48 ] |
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375713000
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