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2015315

新虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射镍钛合金靶材,附着性差的问题 已有3人参与

各位大神,直流溅射近等原子比镍钛合金靶,靶材厚4mm,功率100W,时间30分钟,气压1.5Pa,流量20sccm,但是溅射附着性太差,一抹就掉,是什么原因呢?
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nuaalxn

木虫 (正式写手)

在读研究生

磁控溅射的膜,这应该属于机械结合吧
可能是试样表面粗糙度太低,打磨的时候不用最细的那一号砂纸打磨,应该可以缓解下

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生命不息,奋斗不止。青年,做工程师吧!青年,读马克思吧!
2楼2017-12-06 12:33:58
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
镍钛靶应该不存在影响磁场的问题。
结合力不好常有,但是一抹就掉那就很严重了。想了下可能有以下几个方面
1. 基体是什么?基体清洗过程要完整,一定要除油干燥;
2. 基体沉积过程中有无加温,基体会不会释放气体造成膜层污染;
3. 气压稍稍有点高,你可以试试0.5~1pa的氩气沉积看看。

可交流。

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擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
3楼2017-12-06 15:24:53
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2015315

新虫 (正式写手)

送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by nuaalxn at 2017-12-06 12:33:58
磁控溅射的膜,这应该属于机械结合吧
可能是试样表面粗糙度太低,打磨的时候不用最细的那一号砂纸打磨,应该可以缓解下

打磨时砂纸最细到1000号,还抛光了。

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4楼2017-12-07 09:01:25
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2015315

新虫 (正式写手)

送红花一朵
引用回帖:
3楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2017-12-06 15:24:53
镍钛靶应该不存在影响磁场的问题。
结合力不好常有,但是一抹就掉那就很严重了。想了下可能有以下几个方面
1. 基体是什么?基体清洗过程要完整,一定要除油干燥;
2. 基体沉积过程中有无加温,基体会不会释放气体 ...

基体是tc4,丙酮,酒精清洗过。气压1.5帕,室温溅射,直流。镍有磁性,会不会是这造成的,射频能否试一下呢。

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5楼2017-12-07 09:04:28
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
5楼: Originally posted by 2015315 at 2017-12-07 09:04:28
基体是tc4,丙酮,酒精清洗过。气压1.5帕,室温溅射,直流。镍有磁性,会不会是这造成的,射频能否试一下呢。
...

按你说的基片处理,打磨加丙酮清洗,应该没有问题。
纯Ni靶会严重影响磁场,但是我用过NiCr靶就完全没问题,NiTi靶没有用过,但是应该和普通合金靶没有区别。
如果上面判断正确,那么射频也没必要试。
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
6楼2017-12-07 09:37:59
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Friend007

银虫 (知名作家)


你描述的现象是薄膜与基片结合力太差 办法就是想办法增加结合力,比如楼上答的,基片保持洁净,或增加过度层

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7楼2017-12-08 07:02:33
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稀土中间合金

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
首先你这个靶材是熔炼还是粉末冶金的, 熔炼出来的靶材出现这个现象一般是经过多次重熔导致附着力差

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8楼2017-12-08 14:58:24
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2015315

新虫 (正式写手)

送红花一朵
引用回帖:
7楼: Originally posted by Friend007 at 2017-12-08 07:02:33
你描述的现象是薄膜与基片结合力太差 办法就是想办法增加结合力,比如楼上答的,基片保持洁净,或增加过度层

嗯嗯,谢谢,基片洁净做了,过度层没有,还要再做靶材。

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9楼2017-12-12 12:48:02
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2015315

新虫 (正式写手)

送红花一朵
引用回帖:
8楼: Originally posted by 稀土中间合金 at 2017-12-08 14:58:24
首先你这个靶材是熔炼还是粉末冶金的, 熔炼出来的靶材出现这个现象一般是经过多次重熔导致附着力差

谢谢,这个还没有问靶材商家,如果重熔导致的,有什么办法解决吗,除了换靶。

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10楼2017-12-12 12:49:38
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