| 查看: 1194 | 回复: 4 | ||
ws4231153新虫 (小有名气)
|
[求助]
磁控溅射的参数影响 已有3人参与
|
|
求助 磁控溅射的溅射功率和时间大小各自影响薄膜的什么参数 都是影响厚度吗？薄膜的均匀性用什么方法可以测量吗？射频和直流溅射有什么差别吗？做了一年了还是没有理解到其中的道理 求大神讲解 发自小木虫IOS客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
电化学材料sci助力
已经有0人回复
-
Materials Today Chemistry收版面费吗？
已经有3人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有80人回复
-
求助一些矿业类领域不收版面费或版面费低的期刊
已经有5人回复
-
深地科学与能源资源开采方向课题组预录取2026年度博士生1名
已经有1人回复
-
您好，请问热重TGA原始文件ngb-dt6用什么软件可以打开导出数据？
已经有0人回复
-
关于授权的相关合作
已经有0人回复
-
中国地质大学（武汉）地质资源与地质工程学科招收硕士
已经有0人回复
-
《中国海上油气》期刊
已经有3人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 如果用磁控溅射过载功率提高溅射速率，会对溅射源或者溅射台有什么影响么？
已经有1人回复
- 铝铜膜的反向漏电问题
已经有0人回复
- 求懂焊接和搞磁控溅射的大神进来看看
已经有5人回复
- 磁控溅射镀金属膜，SEM可以看到晶粒大小吗，还是用AFM？
已经有24人回复
- 直流磁控溅射时做氮化物薄膜，无论氮气比例怎么改变，做出来结果都不对是什么情况
已经有34人回复
- 磁控溅射镀膜
已经有0人回复
- 磁控溅射ZnO的文献综合
已经有3人回复
- 磁控溅射靶位置对溅射镀膜的影响
已经有0人回复
- 文献卷号、期号、页码
已经有1人回复
- 磁控溅射的薄膜XRD测试没有结晶，退火处理是否可以使其晶化？
已经有12人回复
- 国内杂志 英文版 修改后发表 录用几率大吗 着急毕业
已经有7人回复
- 【讨论】热电材料科学进展及其对当代社会发展的影响及启示
已经有10人回复
- ITO导电玻璃入门知识
已经有16人回复
DC_Yang
新虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 24.6
- 散金: 1
- 帖子: 15
- 在线: 12.4小时
- 虫号: 5049862
- 注册: 2016-09-23
- 性别: GG
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
2楼2017-11-13 18:19:51
【答案】应助回帖
|
1. 基本可以这么理解，在其他溅射条件相同的情况下功率密度和时间对薄膜厚度近似正比关系：相同沉积时间，功率密度增加一倍，厚度增加接近一倍；相同功率密度情况下，沉积时间延长一倍，膜厚增加一倍。至于对薄膜材料性能的影响，功率密度提高有利于提高薄膜的致密度和结晶情况；时间增加有可能提高基片的温升，间接提高结晶性，但基本只是膜厚增加的影响。 2. 薄膜的均匀性可以根据你所需要的性能决定：光学均匀性，电学均匀性，膜厚均匀性。 方法也就很多，光谱仪，四探针，膜厚测试仪，也要具体情况分析。 3.射频和直流是两种溅射电源的形式，直流就是一个平稳电位，射频是高频震荡波形，常用13.56MHz。常用领域上面提到了，常规导电靶材如金属、ITO等，用直流稳定沉积速率快；射频溅射可对绝缘靶材进行溅射，如SiO2 Al2O3等，膜层更加致密，但沉积速率慢。至于选择也是需要根据你所沉积的材料决定（是否绝缘，是否反应溅射），其中更深的机理你可以多查查文献。 |
» 本帖已获得的红花（最新10朵）
ws42311533楼2017-11-21 16:14:54
ws4231153
新虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 99
- 散金: 35
- 帖子: 148
- 在线: 41.9小时
- 虫号: 6663019
- 注册: 2017-06-01
- 专业: 力学中的基本问题和方法
4楼2017-11-22 19:33:31
LAnza_lw
银虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 294.1
- 散金: 100
- 帖子: 225
- 在线: 40.7小时
- 虫号: 4467576
- 注册: 2016-03-04
- 性别: GG
- 专业: 金属材料表面科学与工程
5楼2017-11-27 11:01:12