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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 晶体 » 综合其他 » 磁控共溅射会不会污染靶源的问题
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ws4231153

新虫 (小有名气)

[求助] 磁控共溅射会不会污染靶源的问题 已有1人参与

本人想研究掺杂对研究材料的影响，在文献上看见的都是用的共溅射的方法，但师姐说我们的机器共溅射的话靶源会受到污染，就不能同时让两个靶进行溅射，想问各位做过共溅射的大哥，你们是如何处理这个问题的呢？

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1楼 2017-06-22 10:54:54
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仁者无敌1242

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
6楼: Originally posted by ws4231153 at 2017-06-26 13:46:41
两个靶是一起开着溅射的 会污染吧 还是先开一个靶 溅射好了将这个靶用挡板挡住后 再开另一个靶
...

正解
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7楼2017-07-10 09:38:49
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匿名

用户注销 (正式写手)
本帖仅楼主可见
2楼2017-06-22 12:16:33
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091820053

禁虫 (知名作家)
本帖内容被屏蔽
3楼2017-06-22 15:14:33
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ws4231153

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by zhouhongpeng at 2017-06-22 12:16:33
可以一起溅射

一起溅射两个靶不会相互污染吗？

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4楼2017-06-26 13:18:14
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