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ws4231153

新虫 (小有名气)

[求助] 磁控共溅射会不会污染靶源的问题 已有1人参与

本人想研究掺杂对研究材料的影响,在文献上看见的都是用的共溅射的方法,但师姐说我们的机器共溅射的话靶源会受到污染,就不能同时让两个靶进行溅射,想问各位做过共溅射的大哥,你们是如何处理这个问题的呢?

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匿名

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2楼2017-06-22 12:16:33
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091820053

禁虫 (知名作家)

本帖内容被屏蔽

3楼2017-06-22 15:14:33
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ws4231153

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by zhouhongpeng at 2017-06-22 12:16:33
可以一起溅射

一起溅射两个靶不会相互污染吗?

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4楼2017-06-26 13:18:14
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匿名

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5楼2017-06-26 13:40:16
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ws4231153

新虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by zhouhongpeng at 2017-06-26 13:40:16
不会吧
...

两个靶是一起开着溅射的 会污染吧 还是先开一个靶 溅射好了将这个靶用挡板挡住后 再开另一个靶

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6楼2017-06-26 13:46:41
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仁者无敌1242

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by ws4231153 at 2017-06-26 13:46:41
两个靶是一起开着溅射的 会污染吧 还是先开一个靶 溅射好了将这个靶用挡板挡住后 再开另一个靶
...

正解
7楼2017-07-10 09:38:49
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仁者无敌1242

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

楼上确实是一种不错的方法,你们的磁控溅射机是几靶位的?
8楼2017-07-10 09:39:56
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wang12330

铜虫 (初入文坛)

如果两个靶不一起溅射的话,不就分布不均匀了么,有可能一种材料把另外一种覆盖住

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一叶一菩提
9楼2017-07-10 10:21:44
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275854279

木虫 (正式写手)

显示屏

污染就污染呗。。。污染完再挨个靶材单独腔体里pasting一次,把表面污染去除就好了
了却君王天下事,赢得青楼薄幸名。
10楼2017-07-11 21:37:30
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