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ws4231153新虫 (小有名气)
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磁控共溅射会不会污染靶源的问题 已有1人参与
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本人想研究掺杂对研究材料的影响，在文献上看见的都是用的共溅射的方法，但师姐说我们的机器共溅射的话靶源会受到污染，就不能同时让两个靶进行溅射，想问各位做过共溅射的大哥，你们是如何处理这个问题的呢？ 发自小木虫IOS客户端 |
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ws4231153
新虫 (小有名气)
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