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有没有用磁控溅射方法溅射石墨靶的同学 已有17人参与
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| 直流磁控溅射方法溅射石墨靶，发现溅射率很低，有没有什么方法可以提高溅射速率的呢 |
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 薄膜制备与特性 |
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9楼2017-05-18 09:58:18
cowboysling
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你的溅射压力和气体流量多少？现在的溅射速率是多少？一般提高功率即可，不过要看你需要达到的目的，还有是否一定需要用直流，这个也和你所用的电源有关。 发自小木虫Android客户端 |
2楼2017-05-17 14:34:00
3楼2017-05-17 17:03:15
cowboysling
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你看一下别人的文献是否需要用到这么高的气体流量。还有就是如果电源功率上不去，你要增加沉积速率会比较困难，因为石墨靶上激发的离子浓度不足，相应基体上的附着率也无法提高。 发自小木虫Android客户端 |
4楼2017-05-17 21:27:03
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5楼2017-05-17 21:30:16
Jason-wong
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6楼2017-05-18 08:25:23
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8楼2017-05-18 09:53:46
cowboysling
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你的腔体多大？我用的是直径650的，一般10sccm就可以上到3pa以上了。而且前面有人也说了，可以换射频，不过不知道你的实验是不是一定要用直流？你是磁控溅射制备石墨烯吗？ 发自小木虫Android客户端 |
10楼2017-05-18 10:00:43
