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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 有没有用磁控溅射方法溅射石墨靶的同学
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拾肆洛希

铁虫 (初入文坛)

[交流] 有没有用磁控溅射方法溅射石墨靶的同学 已有17人参与

直流磁控溅射方法溅射石墨靶，发现溅射率很低，有没有什么方法可以提高溅射速率的呢
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1楼 2017-05-17 14:10:36
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拾肆洛希

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by cowboysling at 2017-05-17 14:34:00
你的溅射压力和气体流量多少？现在的溅射速率是多少？一般提高功率即可，不过要看你需要达到的目的，还有是否一定需要用直流，这个也和你所用的电源有关。

气压1.0pa，氩气100sccm，这个也是我要研究的变量，我提高功率方面有限制，这个电源电压超过600V就会报警
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3楼2017-05-17 17:03:15
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cowboysling

木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你的溅射压力和气体流量多少？现在的溅射速率是多少？一般提高功率即可，不过要看你需要达到的目的，还有是否一定需要用直流，这个也和你所用的电源有关。

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2楼2017-05-17 14:34:00
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cowboysling

木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by 拾肆洛希 at 2017-05-17 17:03:15
气压1.0pa，氩气100sccm，这个也是我要研究的变量，我提高功率方面有限制，这个电源电压超过600V就会报警...

你看一下别人的文献是否需要用到这么高的气体流量。还有就是如果电源功率上不去，你要增加沉积速率会比较困难，因为石墨靶上激发的离子浓度不足，相应基体上的附着率也无法提高。

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4楼2017-05-17 21:27:03
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091820053

禁虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
本帖内容被屏蔽
5楼2017-05-17 21:30:16
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