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使用直流磁控溅射镀氧化铝，结果什么都没有 已有2人参与
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我使用直流磁控溅射，溅射铝靶材同时通入氧气，以此来在玻璃衬底上制备氧化铝薄膜。 没有通氧气时，辉光是紫色偏白的，通入一点氧气后，辉光立马变成红色。 之前镀铝膜，是能镀上去的，薄膜也是银白色的。 这次镀氧化铝，换了一堆参数，甚至连靶基距都缩小了，都能保证起辉，而且有时候辉光闪烁，电流有微小浮动，所以我感觉有氧化铝形成，不然辉光不可能不稳定的，可样品拿出来过后，感觉玻璃片上什么都没有… 请教各位朋友，这是什么原因呢？只要有想法都可以交流！ 谢谢各位，回答精彩的追加小红花～～～ 发自小木虫IOS客户端 |
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 薄膜制备与特性 |
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送红花一朵 
3楼2017-02-28 12:41:35
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氧化铝磁控溅射特别慢，我这边100W 5mTorr 2小时大概16nm，而且氧化铝是透明的 长没长上你得去测 发自小木虫IOS客户端 |
» 本帖已获得的红花（最新10朵）
2楼2017-02-28 11:18:22
4楼2017-02-28 21:28:56
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9楼2017-03-02 17:05:03
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