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使用直流磁控溅射镀氧化铝,结果什么都没有 已有2人参与
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我使用直流磁控溅射,溅射铝靶材同时通入氧气,以此来在玻璃衬底上制备氧化铝薄膜。 没有通氧气时,辉光是紫色偏白的,通入一点氧气后,辉光立马变成红色。 之前镀铝膜,是能镀上去的,薄膜也是银白色的。 这次镀氧化铝,换了一堆参数,甚至连靶基距都缩小了,都能保证起辉,而且有时候辉光闪烁,电流有微小浮动,所以我感觉有氧化铝形成,不然辉光不可能不稳定的,可样品拿出来过后,感觉玻璃片上什么都没有… 请教各位朋友,这是什么原因呢?只要有想法都可以交流! 谢谢各位,回答精彩的追加小红花~~~ 发自小木虫IOS客户端 |
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薄膜制备与特性 |
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3楼2017-02-28 12:41:35
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氧化铝磁控溅射特别慢,我这边100W 5mTorr 2小时大概16nm,而且氧化铝是透明的 长没长上你得去测 发自小木虫IOS客户端 |
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2楼2017-02-28 11:18:22
4楼2017-02-28 21:28:56
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6楼2017-03-01 08:48:32
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9楼2017-03-02 17:05:03
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