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ok12315木虫 (职业作家)
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求助电子束蒸镀法沉积钼薄膜的相关问题 已有1人参与
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我在电子束蒸镀Mo薄膜时，发现沉积速率非常低，个人认为可能是Mo熔点太高约2600摄氏度，但是蒸镀过程中速率波动较大，例如，刚开始速率约1埃/秒，但是十分钟过后速率就几乎为零了，蒸镀室内靶材亮度也大幅度降低，而且进一步增大灯丝电流无法加快蒸镀速率，请问这是什么原因呢？求解 发自小木虫IOS客户端 |
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kangye_1989
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2楼2017-01-17 08:14:05
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3楼2017-01-17 08:30:03
4楼2017-01-17 15:52:57
kangye_1989
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5楼2017-01-17 17:24:26
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靶材是固定的，一般是用金属粉末，但是Mo熔点太高2600度左右，聚焦点就是一个大约直径5毫米左右吧，因为温度太高，看不清晰，靶材大约20克，先前沉积过程中会先将靶材放到一个碳干锅里，但是由于能量太高，电子束直接击穿靶材，把干锅烧了一个洞，现在不用干锅，直接放在hearth里面，我感觉可能也直接击穿靶材打到hearth底了…由于熔点太高，所以只能增大电流，但是能量太高又很容易击穿，太困难了 发自小木虫IOS客户端 |
6楼2017-01-18 12:36:13
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7楼2017-01-18 12:38:33
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8楼2017-01-18 12:39:55
ok123159楼2017-01-18 16:41:21
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10楼2017-01-18 16:45:06
