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ok12315

木虫 (职业作家)

[求助] 求助电子束蒸镀法沉积钼薄膜的相关问题 已有1人参与

我在电子束蒸镀Mo薄膜时,发现沉积速率非常低,个人认为可能是Mo熔点太高约2600摄氏度,但是蒸镀过程中速率波动较大,例如,刚开始速率约1埃/秒,但是十分钟过后速率就几乎为零了,蒸镀室内靶材亮度也大幅度降低,而且进一步增大灯丝电流无法加快蒸镀速率,请问这是什么原因呢?求解

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ok12315

木虫 (职业作家)

引用回帖:
5楼: Originally posted by kangye_1989 at 2017-01-17 17:24:26
没有做过电子束镀膜,能不能形容一下聚焦后是什么样的斑点,是只打到一个地方么?靶材可不可以自转?
我做过脉冲激光沉积,用的是聚焦激光,5mm的靶材打一个点十分钟肯定是打不穿的...

我也用脉冲激光,不过那个不适用金属,一般我用它沉积氧化物薄膜,不会融化靶材,所以基本不存在击穿问题,电子束沉积主要就是先把金属融化然后溅射

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7楼2017-01-18 12:38:33
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kangye_1989

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
ok12315: 金币+20, ★★★★★最佳答案 2017-01-18 16:44:49
是不是电子束打歪了,没打到靶材上
2楼2017-01-17 08:14:05
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ok12315

木虫 (职业作家)

引用回帖:
2楼: Originally posted by kangye_1989 at 2017-01-17 08:14:05
是不是电子束打歪了,没打到靶材上

已经检查过了,聚焦没问题,靶材在沉积初期可以被融化,但是也就十分钟左右就明显变暗了,我怀疑是被击穿了,然后电子束直接轰击hearth 底了,不知道如何解决

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3楼2017-01-17 08:30:03
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科了个研

铁虫 (小有名气)

是不是真空没抽好高温下氧化了

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4楼2017-01-17 15:52:57
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