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fyl1989

金虫 (正式写手)

引用回帖:
6楼: Originally posted by ok12315 at 2017-01-18 12:36:13
靶材是固定的,一般是用金属粉末,但是Mo熔点太高2600度左右,聚焦点就是一个大约直径5毫米左右吧,因为温度太高,看不清晰,靶材大约20克,先前沉积过程中会先将靶材放到一个碳干锅里,但是由于能量太高,电子束直 ...

兄弟,不知道现在你的Mo长的怎么样了,我们也是直接把Mo放在hearth里,但是很不好熔
11楼2017-06-01 11:13:43
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ok12315

木虫 (职业作家)

引用回帖:
11楼: Originally posted by fyl1989 at 2017-06-01 11:13:43
兄弟,不知道现在你的Mo长的怎么样了,我们也是直接把Mo放在hearth里,但是很不好熔...

我已经放弃了,做出来密度不对,应该是仪器不行

发自小木虫IOS客户端
12楼2017-06-01 17:12:37
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pvdmaterial

新虫 (小有名气)

13楼2019-08-14 10:09:09
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ydeng2639

木虫 (小有名气)

半导体纳米材料

在正式镀膜前做好了充分的预熔吗?
不做专家对不起自己
14楼2019-08-18 08:25:33
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yhy1994

银虫 (正式写手)

试试用钨坩埚,电子束可以镀熔点最高5000的材料的

发自小木虫Android客户端
15楼2019-08-18 10:44:58
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再见理想35

木虫 (正式写手)

引用回帖:
6楼: Originally posted by ok12315 at 2017-01-18 12:36:13
靶材是固定的,一般是用金属粉末,但是Mo熔点太高2600度左右,聚焦点就是一个大约直径5毫米左右吧,因为温度太高,看不清晰,靶材大约20克,先前沉积过程中会先将靶材放到一个碳干锅里,但是由于能量太高,电子束直 ...

如果靶材是固定的,那么电子束就要动起来。如果电子束是固定的,靶材就得动起来。如果都不动,就要出问题。
16楼2019-08-20 09:34:30
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babyoflion

金虫 (著名写手)

为啥不考虑磁控溅射呢
17楼2019-08-20 10:09:57
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