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ok12315

木虫 (职业作家)

[求助] 求助电子束蒸镀法沉积钼薄膜的相关问题 已有1人参与

我在电子束蒸镀Mo薄膜时,发现沉积速率非常低,个人认为可能是Mo熔点太高约2600摄氏度,但是蒸镀过程中速率波动较大,例如,刚开始速率约1埃/秒,但是十分钟过后速率就几乎为零了,蒸镀室内靶材亮度也大幅度降低,而且进一步增大灯丝电流无法加快蒸镀速率,请问这是什么原因呢?求解

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fyl1989

金虫 (正式写手)

引用回帖:
6楼: Originally posted by ok12315 at 2017-01-18 12:36:13
靶材是固定的,一般是用金属粉末,但是Mo熔点太高2600度左右,聚焦点就是一个大约直径5毫米左右吧,因为温度太高,看不清晰,靶材大约20克,先前沉积过程中会先将靶材放到一个碳干锅里,但是由于能量太高,电子束直 ...

兄弟,不知道现在你的Mo长的怎么样了,我们也是直接把Mo放在hearth里,但是很不好熔
11楼2017-06-01 11:13:43
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kangye_1989

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
ok12315: 金币+20, ★★★★★最佳答案 2017-01-18 16:44:49
是不是电子束打歪了,没打到靶材上
2楼2017-01-17 08:14:05
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ok12315

木虫 (职业作家)

引用回帖:
2楼: Originally posted by kangye_1989 at 2017-01-17 08:14:05
是不是电子束打歪了,没打到靶材上

已经检查过了,聚焦没问题,靶材在沉积初期可以被融化,但是也就十分钟左右就明显变暗了,我怀疑是被击穿了,然后电子束直接轰击hearth 底了,不知道如何解决

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3楼2017-01-17 08:30:03
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科了个研

铁虫 (小有名气)

是不是真空没抽好高温下氧化了

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4楼2017-01-17 15:52:57
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