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[交流]
关于二氧化硅的一些感受
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各位老司机,我做了快半年的二氧化硅改性、合成,发现了其中有许多“猫腻” 1.关于二氧化硅的改性有很多,常见的有kh-550、kh-560、kh-570,但其实他们的改性接枝率很低,就我查到的大多数文献其接枝率最多做到3%左右,也就是说如果你想通过kh系列改性剂“搭桥”去合成的话,效果并没有那么好,举个例子1g Sio2其中接枝的仅有0.03g,如果你的反应体系里有一点杂质,那么抱歉,你一定做不出来。 2.关于二氧化硅的红外,大家看二氧化硅有没有改性好都是通过3000-2900cm-1的甲基和亚甲基峰位去判断,再者是通过3200左右的羟基峰位的减少去判断,而不是根据一些官能团去判断,举个例子:用kh560去处理二氧化硅,做红外,发现他的913cm-1的环氧峰位根本不出现,但为了使自己的论文合理,大家就只说看到了甲基和亚甲基峰而不说没看到环氧峰位。 3.虽然接枝率低但并不代表其减少团聚效果差,如果只是为了分散性的提高,用kh系列改性完全足够。 (PS:我说的二氧化硅是指直接购买的,对于用TEOS合成的,我会在以后实验后进行补充,当然我猜我一定有错误的地方,希望大家指正) |
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dsy664285570(金币+1): 谢谢参与
dsy664285570(金币+1): 谢谢参与
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1.关于二氧化硅的改性有很多,常见的有kh-550、kh-560、kh-570,但其实他们的改性接枝率很低,就我查到的大多数文献其接枝率最多做到3%左右,也就是说如果你想通过kh系列改性剂“搭桥”去合成的话,效果并没有那么好,举个例子1g Sio2其中接枝的仅有0.03g,如果你的反应体系里有一点杂质,那么抱歉,你一定做不出来。 2.关于二氧化硅的红外,大家看二氧化硅有没有改性好都是通过3000-2900cm-1的甲基和亚甲基峰位去判断,再者是通过3200左右的羟基峰位的减少去判断,而不是根据一些官能团去判断,举个例子:用kh560去处理二氧化硅,做红外,发现他的913cm-1的环氧峰位根本不出现,但为了使自己的论文合理,大家就只说看到了甲基和亚甲基峰而不说没看到环氧峰位 |
14楼2016-11-24 15:42:09
简单回复
2016-11-24 14:50
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吸血人狼城6楼
2016-11-24 14:56
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2016-11-24 15:01
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dsy664285570(金币+1): 谢谢参与
祝福宝。 发自小木虫Android客户端
夏侯轻衣13楼
2016-11-24 15:38
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dsy664285570(金币+1): 谢谢参与
lu 发自小木虫IOS客户端







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peiru