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su8-2015光刻求助 已有9人参与
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如题，光刻胶用的su8-2015，胶已经过期了，不过一直避光在冰箱里保存，应该还好。 想在硅片上做一些40*40um的正方形槽，深度30um左右。 工艺参数的话： 前烘65℃-15min 95℃-30min 曝光时间20s 后烘同样65℃-15min 95℃-30min 参数是之前的师兄师姐留下的，所以问题应该不大 我做了几次，有以下几个问题： 一是显影以后正方形明显变成了圆形，这个我怀疑是曝光模式的问题，之前用的soft模式，后来改成hard模式就好了一些，不过还是会有这样的变形。 更严重的是显影以后图案的深度严重不足，正方形槽的深度只有6-7um。另外，我的图案上面还有100um宽的通道，用台阶仪看了一下，通道壁都是一个斜坡下去的，整个通道截面是倒梯形的，真正能达到30um的地方宽度差不多只有20um。我觉得是有胶没有除尽。 哦对了，我用的是打印的菲林片做的掩膜，图形的精度没什么问题，不知道是不是因为这种掩膜版曝光的时候衍射的缘故，造成通道壁的坡度比较差。 下面是之前显微镜拍的一张图，抱歉手头没有更多的图片了。 希望有碰到过类似问题或者有经验的帮帮忙，谢谢了！  su-8.jpg |
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7楼2016-11-05 17:31:31
xiaozhuttt
新虫 (初入文坛)
2楼2016-11-03 12:34:25
3楼2016-11-03 13:40:41
叫我小川兄吧
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wl_0232
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