| 查看: 3664 | 回复: 20 | ||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||||
[交流]
su8-2015光刻求助 已有9人参与
|
||||
|
如题，光刻胶用的su8-2015，胶已经过期了，不过一直避光在冰箱里保存，应该还好。 想在硅片上做一些40*40um的正方形槽，深度30um左右。 工艺参数的话： 前烘65℃-15min 95℃-30min 曝光时间20s 后烘同样65℃-15min 95℃-30min 参数是之前的师兄师姐留下的，所以问题应该不大 我做了几次，有以下几个问题： 一是显影以后正方形明显变成了圆形，这个我怀疑是曝光模式的问题，之前用的soft模式，后来改成hard模式就好了一些，不过还是会有这样的变形。 更严重的是显影以后图案的深度严重不足，正方形槽的深度只有6-7um。另外，我的图案上面还有100um宽的通道，用台阶仪看了一下，通道壁都是一个斜坡下去的，整个通道截面是倒梯形的，真正能达到30um的地方宽度差不多只有20um。我觉得是有胶没有除尽。 哦对了，我用的是打印的菲林片做的掩膜，图形的精度没什么问题，不知道是不是因为这种掩膜版曝光的时候衍射的缘故，造成通道壁的坡度比较差。 下面是之前显微镜拍的一张图，抱歉手头没有更多的图片了。 希望有碰到过类似问题或者有经验的帮帮忙，谢谢了！  su-8.jpg |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 器件 |
» 本帖@通知
» 猜你喜欢
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有288人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- SU8 2075 光刻出了大问题
已经有14人回复
- SU 8 光刻 问题，希望各位大神指点一下
已经有10人回复
- SU8-2000.5电子束曝光边缘粗糙，结构之间有交联
已经有11人回复
叫我小川兄吧
木虫 (正式写手)
- 应助: 8 (幼儿园)
- 金币: 2332.9
- 散金: 1791
- 红花: 17
- 帖子: 792
- 在线: 199.6小时
- 虫号: 3226397
- 注册: 2014-05-22
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
4楼2016-11-04 19:53:12
xiaozhuttt
新虫 (初入文坛)
2楼2016-11-03 12:34:25
wl_0232
木虫 (正式写手)
理工/瞎文艺/处女
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 2421.9
- 红花: 2
- 帖子: 422
- 在线: 129.8小时
- 虫号: 1965604
- 注册: 2012-08-31
- 专业: 集成电路设计与测试
5楼2016-11-05 08:28:31
6楼2016-11-05 16:20:06