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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 基础研究 » RF溅射150厘米金属钛靶得均匀性问题
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usst1

木虫 (正式写手)

[交流] RF溅射150厘米金属钛靶得均匀性问题

有人研究过用该系统溅射沉积薄膜得均匀性问题吗？
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1楼 2008-11-12 00:44:10
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yangfanemily

金虫 (小有名气)
曾经做过一小段时间的RF溅射氧化物薄膜，背景真空度，溅射的功率还有Ar分压都会对薄膜的质量产生影响
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7楼2009-09-20 09:07:28
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lxygwqf2006

铁虫 (初入文坛)
一看这题目就有问题
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2楼2009-01-03 10:44:07
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gold1987

木虫 (职业作家)
★ ★
ddx-k(金币+1,VIP+0):谢谢参与
usst1(金币+1):thank you for your information 1-25 02:31
我做过一段时间用RF溅射ITO，个人认为，真空度越好，沉积速度快切均匀。
另外，衬底材料也要洁净，再者，溅射之前最好N2吹下靶材
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3楼2009-01-04 19:18:46
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zbs

金虫 (小有名气)
★
ddx-k(金币+1,VIP+0):ss 10-25 14:34
退火温度对样品的形貌也有影响，所以可以选择不同的退火温度分别研究，再进行总结。当然这只是实验的一个部分，其他实验条件也要控制好，比如背景真空度、气流的选择等。
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4楼2009-02-24 13:26:32
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