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usst1

木虫 (正式写手)

[交流] RF溅射150厘米金属钛靶得均匀性问题

有人研究过用该系统溅射沉积薄膜得均匀性问题吗?
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lxygwqf2006

铁虫 (初入文坛)

一看这题目就有问题
2楼2009-01-03 10:44:07
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gold1987

木虫 (职业作家)

★ ★
ddx-k(金币+1,VIP+0):谢谢参与
usst1(金币+1):thank you for your information 1-25 02:31
我做过一段时间用RF溅射ITO,个人认为,真空度越好,沉积速度快切均匀。
另外,衬底材料也要洁净,再者,溅射之前最好N2吹下靶材
3楼2009-01-04 19:18:46
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zbs

金虫 (小有名气)


ddx-k(金币+1,VIP+0):ss 10-25 14:34
退火温度对样品的形貌也有影响,所以可以选择不同的退火温度分别研究,再进行总结。当然这只是实验的一个部分,其他实验条件也要控制好,比如背景真空度、气流的选择等。
4楼2009-02-24 13:26:32
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浪迹@天涯

铁杆木虫 (正式写手)

“我做过一段时间用RF溅射ITO,个人认为,真空度越好,沉积速度快切均匀。
另外,衬底材料也要洁净,再者,溅射之前最好N2吹下靶材 ”
RF溅射ITO靶材技术要求能详细提供吗?
在做无压烧结ITO靶材。请提供帮助!谢谢!
人生大舞台,爱拼才会赢。观念决定行动,行动决定结果。
5楼2009-02-28 18:20:46
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yjyang07

木虫 (著名写手)


ddx-k(金币+1,VIP+0):xx 10-25 14:34
均匀性主要和你辉光的大小有关,辉光面积大均匀性就好啊
小了当然就不是很均匀了
天行健,君子以自强不息~~~~~
6楼2009-09-20 08:32:39
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yangfanemily

金虫 (小有名气)

曾经做过一小段时间的RF溅射氧化物薄膜,背景真空度,溅射的功率还有Ar分压都会对薄膜的质量产生影响
7楼2009-09-20 09:07:28
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cord

铁杆木虫 (著名写手)


引用回帖:
Originally posted by gold1987 at 2009-1-4 19:18:
我做过一段时间用RF溅射ITO,个人认为,真空度越好,沉积速度快切均匀。
另外,衬底材料也要洁净,再者,溅射之前最好N2吹下靶材

第一句话
做了这么多ITO和ZnO,第一听说真空度还跟沉积速度和均匀性有关。
真有关系,你用的那个系统也太烂了。

第二句话

你用的系统确实很烂。
8楼2009-09-20 09:15:47
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COOLT

木虫 (著名写手)

没看错吧,150厘米?楼主干吗用?呵呵
comeon!
9楼2009-09-20 09:43:15
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usst1

木虫 (正式写手)

这是很旧的仪器,估计比我年龄大
10楼2009-09-23 00:18:10
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