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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 基础研究 » RF溅射150厘米金属钛靶得均匀性问题
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usst1

木虫 (正式写手)

[交流] RF溅射150厘米金属钛靶得均匀性问题

有人研究过用该系统溅射沉积薄膜得均匀性问题吗？
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1楼 2008-11-12 00:44:10
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lxygwqf2006

铁虫 (初入文坛)
一看这题目就有问题
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2楼2009-01-03 10:44:07
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gold1987

木虫 (职业作家)
★ ★
ddx-k(金币+1,VIP+0):谢谢参与
usst1(金币+1):thank you for your information 1-25 02:31
我做过一段时间用RF溅射ITO，个人认为，真空度越好，沉积速度快切均匀。
另外，衬底材料也要洁净，再者，溅射之前最好N2吹下靶材
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3楼2009-01-04 19:18:46
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zbs

金虫 (小有名气)
★
ddx-k(金币+1,VIP+0):ss 10-25 14:34
退火温度对样品的形貌也有影响，所以可以选择不同的退火温度分别研究，再进行总结。当然这只是实验的一个部分，其他实验条件也要控制好，比如背景真空度、气流的选择等。
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4楼2009-02-24 13:26:32
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浪迹@天涯

铁杆木虫 (正式写手)
“我做过一段时间用RF溅射ITO，个人认为，真空度越好，沉积速度快切均匀。
另外，衬底材料也要洁净，再者，溅射之前最好N2吹下靶材 ”
RF溅射ITO靶材技术要求能详细提供吗？
在做无压烧结ITO靶材。请提供帮助！谢谢！
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人生大舞台，爱拼才会赢。观念决定行动，行动决定结果。
5楼2009-02-28 18:20:46
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yjyang07

木虫 (著名写手)
★
ddx-k(金币+1,VIP+0):xx 10-25 14:34
均匀性主要和你辉光的大小有关，辉光面积大均匀性就好啊
小了当然就不是很均匀了
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天行健，君子以自强不息～～～～～
6楼2009-09-20 08:32:39
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yangfanemily

金虫 (小有名气)
曾经做过一小段时间的RF溅射氧化物薄膜，背景真空度，溅射的功率还有Ar分压都会对薄膜的质量产生影响
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7楼2009-09-20 09:07:28
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cord

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by gold1987 at 2009-1-4 19:18:
我做过一段时间用RF溅射ITO，个人认为，真空度越好，沉积速度快切均匀。
另外，衬底材料也要洁净，再者，溅射之前最好N2吹下靶材

第一句话
做了这么多ITO和ZnO，第一听说真空度还跟沉积速度和均匀性有关。
真有关系，你用的那个系统也太烂了。

第二句话

你用的系统确实很烂。
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8楼2009-09-20 09:15:47
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COOLT

木虫 (著名写手)
没看错吧，150厘米？楼主干吗用？呵呵
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comeon！
9楼2009-09-20 09:43:15
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usst1

木虫 (正式写手)
这是很旧的仪器，估计比我年龄大
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10楼2009-09-23 00:18:10
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