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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 基础研究 » RF溅射150厘米金属钛靶得均匀性问题
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usst1

木虫 (正式写手)

[交流] RF溅射150厘米金属钛靶得均匀性问题

有人研究过用该系统溅射沉积薄膜得均匀性问题吗？
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1楼 2008-11-12 00:44:10
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gold1987

木虫 (职业作家)
★ ★
ddx-k(金币+1,VIP+0):谢谢参与
usst1(金币+1):thank you for your information 1-25 02:31
我做过一段时间用RF溅射ITO，个人认为，真空度越好，沉积速度快切均匀。
另外，衬底材料也要洁净，再者，溅射之前最好N2吹下靶材
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3楼2009-01-04 19:18:46
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lxygwqf2006

铁虫 (初入文坛)
一看这题目就有问题
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2楼2009-01-03 10:44:07
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zbs

金虫 (小有名气)
★
ddx-k(金币+1,VIP+0):ss 10-25 14:34
退火温度对样品的形貌也有影响，所以可以选择不同的退火温度分别研究，再进行总结。当然这只是实验的一个部分，其他实验条件也要控制好，比如背景真空度、气流的选择等。
赞一下(10人) 回复此楼
4楼2009-02-24 13:26:32
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浪迹@天涯

铁杆木虫 (正式写手)
“我做过一段时间用RF溅射ITO，个人认为，真空度越好，沉积速度快切均匀。
另外，衬底材料也要洁净，再者，溅射之前最好N2吹下靶材 ”
RF溅射ITO靶材技术要求能详细提供吗？
在做无压烧结ITO靶材。请提供帮助！谢谢！
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人生大舞台，爱拼才会赢。观念决定行动，行动决定结果。
5楼2009-02-28 18:20:46
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